密閉恒溫循環(huán)器HX系列簡介：

   常應用于對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。

用途特點
風冷式全封閉制冷壓縮機,降溫速度快。
微機智能控制,溫度精確溫度。
數(shù)顯分辨率0.1℃或0.01℃，具有溫度測量值偏差修正功能。
溫度超溫保護,自動切斷電源并報警。
制冷系統(tǒng)過熱、過流自動保護。

密閉恒溫循環(huán)器HX系列技術參數(shù)：

使用方法
1、將預制好的瀝青混凝土試件（或其它試件）整齊的排列于水箱內的托板上，然后向水箱內加水，使水浸沒試件，并高出試件90mm左右。
2、將溫度儀的控制溫度選擇在所需的溫度值上，接通儀器的電源，啟動儀器，儀器進入升溫狀態(tài)。
3、當加熱溫度上升至控制的溫度時，儀器自動停止加熱，并使水箱內溫度穩(wěn)定在該溫度上，此時記下時間。
4、試件在水箱內溫度達到恒定至少30分鐘，方可取出使用。
5、試驗結束后，旋動水箱底部水咀，將箱內的水放凈，擦凈儀器表面水分，將儀器置于透風干燥處。